镀膜片

镀膜片

在晶片上进行镀膜加工后形成的即为镀膜晶片。
晶片镀膜(膜生长)的时候,有作为各层之间绝缘材料的绝缘膜,导电材料的金属膜,以及其他防蚀处理材料及保护膜等。

主要制造方法有热氧化法、CVD法(Chemical Vapor Deposition:化学气相生长法)、PVD法(Physical Vapor Deposition:物理气相生长法)。

热氧化膜(SiO2)因为是在扩散炉里成膜加工而成,因此在晶片的两面都可以镀膜。但是Plasma CVD以及溅射(PVD)等则可以进行单片加工,因此只是晶片的单面成膜。

因为生长方法的不同,其特征也各不相同。根据膜的不同种类使用上也不尽相同。
镀膜片

E&M镀膜片

提供金属膜,热氧化膜等,各种成膜。

  • 大小 2-12寸
(参考例)
  • 热氧化膜,Si3N4膜,TEOS,BPSG,Cu膜,Al膜,Ti膜,Ta膜,TaN膜,TiN膜等。
  • 关于光刻法加工,可按照您的要求。