镀膜片
镀膜片
- 在晶片上进行镀膜加工后形成的即为镀膜晶片。
晶片镀膜（膜生长）的时候，有作为各层之间绝缘材料的绝缘膜，导电材料的金属膜，以及其他防蚀处理材料及保护膜等。
主要制造方法有热氧化法、CVD法(Chemical Vapor Deposition：化学气相生长法)、PVD法（Physical Vapor Deposition：物理气相生长法)。
热氧化膜（SiO2)因为是在扩散炉里成膜加工而成，因此在晶片的两面都可以镀膜。但是Plasma CVD以及溅射（PVD）等则可以进行单片加工，因此只是晶片的单面成膜。
因为生长方法的不同，其特征也各不相同。根据膜的不同种类使用上也不尽相同。 
E&M镀膜片
提供金属膜，热氧化膜等，各种成膜。
- 大小 2-12寸
- 热氧化膜,Si3N4膜,TEOS,BPSG,Cu膜,Al膜,Ti膜,Ta膜,TaN膜,TiN膜等。
- 关于光刻法加工，可按照您的要求。