FZ圆片

FZ圆片

FZ即浮游区域(Floating Zone),FZ法是指区别于CZ法的,不同的单晶棒生长方法。
FZ法是在棒状多晶棒的下面安放种晶,采取诱导加热熔化种晶与多晶棒的结合部,从而形成单晶化的方法。

由于这种生长方法的特征,FZ晶圆片是一种具有高纯度,并且氧碳不纯率极低的晶圆片。
为了抑制结晶半径方向的电阻分布偏差,也有晶片会使用中性子照射(NTD)。

FZ晶片的用途主要有MEMS,二极管,IGBT,RF设备,Thyristor(整流器),高效率太阳电池以及光学产品等。
FZ圆片

E&MFZ圆片

以面向高周波IC以及MEMS为首,我们还可以提供面向功率器件,太阳能电池的中性子照射NTD晶圆片,以及摻杂不纯物质的FZ硅晶圆片。
从开发研究到量产,在广泛领域里为您提供产品服务。

  • 尺寸:~8寸